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宁德电镀加工之电解条件的选择

发布于:2021年01月15日 来源:www.fuhai360.com
[摘要]宁德电镀加工之电解条件的选择 这里所指的电解,目的是要去除镀液中的杂质,但是在电解去除杂质的同时,往往也伴随有溶液中主要金属离子的放电沉积。为了提高去除杂质的速率,减慢溶液中主要金属离子的沉积速率,就要注意电解处理的操作条件。
宁德电镀加工之电解条件的选择

这里所指的电解,目的是要去除镀液中的杂质,但是在电解去除杂质的同时,往往也伴随有溶液中主要金属离子的放电沉积。为了提高去除杂质的速率,减慢溶液中主要金属离子的沉积速率,就要注意电解处理的操作条件。

宁德电镀加工

①电流密度:电解处理时,以控制多大的电流密度为好,原则上要按照电镀时杂质起不良影响的电流密度范围。也就是说,在电镀过程中,若杂质的影响反映在低电流密度区,那么电解处理时应控制在低电流密度下进行,假使杂质的影响反映在高电流密度区,则应选用高电流密度进行电解;如果杂质在高电流密度区和低电流密度区都有影响,那么可先用高电流密度电解处理一段时间,然后再改用低电流密度电解处理,直至镀液恢复正常。在一般情况下,凡是用低电流密度电解可以去除的杂质,为了减少镀液中主要放电金属离子的沉积,一般都采用低电流密度电解。事实上,电镀生产中,多数杂质的影响反映在低电流密度区,所以通常电解处理的电流密度控制在O.1A/dm2~O.5A/dm2之间。
②温度和pH值:电解处理时温度和pH的选择,原则上也是要根据电镀时杂质起不良影响较大的温度和pH范围。例如镀镍溶液中的铜杂质和NO3-杂质,在pH较低时的影响较大,所以电解去除镀镍溶液中的铜杂质和NO3-杂质时,应选用低pH进行电解,在这样的条件下,去除杂质的速率较快。有些杂质在电解过程中会分解为气体(如NO3-在阴极上还原为氮氧化物或氨,Cl-在阳极上氧化为Cl2,等,这时就应选用高温电解,使电解过程中形成的气体挥发逸出(气体在溶液中的溶解度,一般随温度升高而降低),从而防止它溶解于水而重新沾污镀液。
按照一般规律,随着镀液温度的升高,电解去除杂质的速率也增大,所以当加温对镀液主要成分没有影响时,电解处理宜在加温下进行。但究竟以控制在什么温度为好,通过小试验确定。
③搅拌:电解处理既然是依靠杂质在阴极(或阳极)的表面上反应而被除去,那么就应创造条件,使杂质与电极表面有充分的接触机会。搅拌可以加速杂质运动,使它与电极的接触机会增多,所以为了提高处理效果,电解时应搅拌镀液。国外资料介绍,在电解处理时用超声波搅拌镀液可提高处理效果。因此,有条件的单位,电解处理时应尽量加速对镀液的搅拌。